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Mercado de material objetivo de pulverización metálica: dinámica de la industria, tamaño del mercado y pronóstico de oportunidades para 2031

Mercado mundial de materiales objetivo de pulverización catódica de metal: por tipo (metal puro y aleación); Aplicación (Semiconductor, Energía Solar, Pantalla Plana); y región): dinámica de la industria, tamaño del mercado, oportunidades y pronóstico hasta 2031

  • Última actualización: mar-2023 |  
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     | ID de informe: AA0622277 | Entrega: 2 a 4 horas

ALCANCE DEL INFORME

Atributo del informeDetalles
Valor del tamaño del mercado en 2022US$ 3.291,7 millones
Ingresos esperados en 2031US$ 5.764,4 millones
Datos históricos2018-2021
Año base2022
Período de pronóstico2023-2031
UnidadValor (millones de dólares)
CAGR6.56%
Segmentos cubiertosPor tipo, por aplicación, por región
Empresas clave                                                                                                              JX Nippon Mining & Metals Corporation, Praxair, Plansee SE, Mitsui Mining & Smelting, Hitachi Metals, Honeywell, Sumitomo Chemical, ULVAC, Materion (Heraeus), GRIKIN Advanced Material Co., Ltd., TOSOH, Ningbo Jiangfeng, Heesung, Luvata, Fujian Acetron New Materials Co., Ltd, Changzhou Sujing Electronic Material, Luoyang Sifon Electronic Materials, FURAYA Metals Co., Ltd, Advantec, Angstrom Sciences, Umicore Thin Film Products, otros actores destacados
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PREGUNTAS FRECUENTES

El mercado mundial de materiales objetivo de pulverización catódica de metales se valoró en 3.291,7 millones de dólares estadounidenses en 2022.

Los objetivos de pulverización catódica y los recubrimientos de materiales de evaporación se utilizan para mejorar las propiedades de los objetivos metálicos, semiconductores y aislantes en componentes semiconductores, pantallas, sensores, ópticas y muchos otros materiales. 

Se prevé que el mercado objetivo de sputtering aumente debido a un aumento en la integración de tecnologías de fabricación de películas delgadas en los sectores de electrónica digital y semiconductores.

Se proyecta que el mercado mundial de Material objetivo de pulverización metálica se expandirá a una tasa compuesta anual del 6,56% durante el período previsto 2023-2031.

El creciente impulso del mercado se atribuye a la creciente aplicación de objetivos de pulverización catódica en muchas industrias de uso final.

La presencia de impurezas afecta el desempeño de los objetivos de pulverización catódica. 

Las diversas segmentaciones consideradas para analizar el mercado global de materiales objetivo de pulverización catódica de metales se basan en el tipo, la aplicación y la región. 

El segmento de metales puros domina el mercado en 2022. 

La pantalla plana es el segmento de aplicaciones más alto en el mercado global de materiales objetivo de pulverización metálica.

Asia Pacífico domina el mercado mundial de materiales objetivo de pulverización metálica. 

Los actores clave en el mercado global de materiales objetivo de pulverización metálica son JX Nippon Mining and Metals Corporation, Praxair, Plansee SE, Sumitomo Chemical y GRIKIN Advanced Material Co. Ltd., entre otros.

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