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市场情景
全球金属溅射靶材市场的收入预计将从2022年的32.917亿美元跃升至2031年的57.644亿美元。2023-2031年预测期间,该市场的复合年增长率为6.56%。就交易量而言,同期市场复合年增长率为6.19%。
这种增长可归因于溅射靶材在各个行业中的使用不断增加,包括半导体元件、显示器、传感器、数据存储设备、光伏电池、电池、工业工具、光学、汽车镜、装饰等。溅射靶材由高纯金属制成,是各种溅射沉积技术中必不可少的涂层材料。超纯铝、铜、银和金等金属在现代工业中常用。预计预测期内市场销量复合年增长率为 6.19%。
金属溅射靶材市场的主要驱动力之一是溅射靶材应用的不断增长。这些靶材具有不同的形状和尺寸,包括定制合金、具有独特化学成分的陶瓷溅射靶材以及贵金属和非贵金属溅射靶材。采用贵金属回收材料的制造工艺来制造溅射靶材,可以在溅射薄膜中实现所需的特性。此外,溅射靶材是太阳能行业中用于薄膜太阳能电池涂层的相对新型涂层材料。
然而,溅射靶材中杂质的存在会影响其性能。这一因素可能会在一定程度上阻碍市场的增长。
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市场动态
司机
各种最终用途行业的需求迅速扩大
半导体、电子和太阳能行业是金属溅射靶材的主要用户。由于对电子设备和可再生能源的需求不断增长,对这些材料的需求预计将会增加。溅射靶材还用于数据存储设备、光伏电池、工业工具、光学器件和汽车镜等应用。随着这些产品的使用不断增加,金属溅射靶材市场的需求也在不断增加。
人们对精密制造的日益关注也推动了对金属溅射靶材的需求不断增长。在制造过程中使用溅射靶材可以更精确地控制沉积过程,从而生产出更高质量的产品。这导致半导体、平板显示器和其他电子设备生产中对溅射靶材的需求增加。
先进技术推动全球金属溅射靶材市场
技术的进步导致了新型和改进的溅射靶材的开发,这些靶材具有增强的特性和性能。这些材料旨在满足各种行业和应用的特定需求。例如,由陶瓷和合金等先进材料制成的溅射靶材的开发提高了其在极端环境下的性能,使其成为航空航天和国防应用的理想选择。
全球金属溅射靶材市场的制造商正在大力投资研发,以开发新型溅射靶材,以提供更好的性能,例如更好的附着力、更高的纯度和更高的耐磨性。这些进步预计将在未来几年为金属溅射靶材市场创造新的增长机会。
克制
金属溅射靶材中杂质的存在
尽管溅射靶材有许多优点,但它们的性能可能会受到杂质的存在的影响。溅射靶材中的杂质可能会导致最终产品出现质量问题并限制其有效性。制造商必须投资质量控制流程,以确保溅射靶材的纯度。
杂质的存在是制造商必须克服的关键挑战之一,以充分发挥金属溅射靶材市场的潜力。质量控制流程会增加生产成本,使制造商提供有竞争力的价格变得更具挑战性。因此,寻找经济有效的方法来确保溅射靶材的纯度对于金属溅射靶材市场的增长至关重要。
全球金属溅射靶材市场细分分析
按类型
根据类型,纯金属细分市场在 2022 年占据最高市场份额。大多数金属溅射靶材均由极纯金属制成。对于各种溅射沉积技术来说,它们是应用最广泛和最基本的涂层材料。在当今的行业中,超纯铝、铜、银和金是常见的溅射靶材。然而,由于合金比纯金属提供更广泛的工业应用,预计合金领域在预测期内将创下最高的复合年增长率。
按申请
从应用来看,2022年平板显示领域将主导金属溅射靶材市场。显示面板和触摸屏面板主要采用溅射靶材镀膜制造。主要用于ITO玻璃和触摸屏电极的生产。最常见的溅射靶材是氧化铟锡(ITO),其次是钼、铝、硅和其他金属靶材。 ITO玻璃是在平板显示器制造过程中通过在玻璃基板上多次溅射和镀膜而生成的。然而,太阳能领域在预测期内的复合年增长率最高。
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区域分析
亚太地区是全球金属溅射靶材市场的重要股东。 2022 年,它占据了最高的市场份额,预计在预测期内将继续保持最高的复合年增长率。该地区的增长可归因于半导体和数字电子行业溅射靶材产品消费的增长。东南亚包括中国大陆、台湾、日本和韩国的电子中心,被确定为主要区域市场。
此外,印度正在成为该地区金属溅射靶材的潜在市场。印度政府注重促进国内制造业,导致半导体和电子行业显着增长。这种增长预计将增加对金属溅射靶材的需求,推动该地区市场的增长。
亚太地区的太阳能光伏累计装机容量一直处于全球领先地位。印度和越南等发展中国家太阳能光伏电站的快速建设可能有助于该地区在金属溅射靶材市场的主导地位。随着世界各国政府对可再生能源的关注,溅射靶材在太阳能行业的使用预计将增加,进一步推动市场增长。
然而,该地区金属溅射靶材市场的增长并非没有挑战。半导体和电子行业对溅射靶材的需求不断增加,导致原材料短缺,推高价格。此外,该地区本地制造商的存在导致了激烈的竞争,使得国际企业在市场上立足面临挑战。
竞争仪表板:
细分概述
细分概述
以下是全球金属溅射靶材市场的各个细分市场:
按类型:
按应用:
按地区:
报告属性 | 细节 |
---|---|
2022年市场规模价值 | 32.917 亿美元 |
2031 年预期收入 | 57.644 亿美元 |
历史数据 | 2018-2021 |
基准年 | 2022 |
预测期 | 2023-2031 |
单元 | 价值(百万美元) |
复合年增长率 | 6.56% |
涵盖的细分市场 | 按类型、按应用、按地区 |
重点企业 | JX Nippon Mining & Metals Corporation、普莱克斯、攀时 SE、三井矿业冶炼、日立金属、霍尼韦尔、住友化学、ULVAC、Materion(贺利氏)、GRIKIN 新材料有限公司、东曹、宁波江丰、喜星、诺而达、福建创创新材料股份有限公司、常州苏晶电子材料、洛阳四方电子材料、FURAYA Metals Co., Ltd、Advantec、Angstrom Sciences、Umicore Thin Film Products等知名企业 |
定制范围 | 根据您的喜好获取定制报告。要求定制 |
2022年全球金属溅射靶材市场规模达32.917亿美元。
溅射靶材和蒸发材料涂层用于改善半导体元件、显示器、传感器、光学器件和许多其他材料中金属、半导体和绝缘靶材的性能。
由于数字电子和半导体领域薄膜制造技术的集成激增,预计溅射靶材市场将会增长。
预计2023-2031年期间,全球金属溅射靶材市场将以复合年增长率6.56%的速度扩张。
市场的增长动力归因于溅射靶材在许多最终用途行业中的应用不断增加。
杂质的存在会影响溅射靶材的性能。
分析全球金属溅射靶材市场时考虑的各种细分是基于类型、应用和区域的。
到 2022 年,纯金属领域将主导市场。
平板显示是全球金属溅射靶材市场中最高的应用领域。
亚太地区主导全球金属溅射靶材市场。
全球金属溅射靶材市场的主要参与者包括 JX Nippon Mining and Metals Corporation、Praxair、Plansee SE、Sumitomo Chemical 和 GRIKIN Advanced Material Co. Ltd. 等。
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