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薄膜ニオブ酸リチウムデバイス市場: 製品タイプ (TFLN ウェーハ、TFLN フォトニック チップ、統合 TFLN PIC (フォトニック集積回路)、TFLN 光サブアセンブリ、TFLN 開発キットおよびプロトタイピング ボード); カット タイプ (X カット、Y カット、Z カット、カスタム方向); 厚さ (最大 300 nm、300 ~ 600 nm、600 nm 以上); デバイス タイプ (電気光学変調器、スイッチ、周波数変換器 / 非線形光デバイス、フィルターおよび共振器、LiDAR トランスミッター (フォトニック ソース + 変調器)、RF フォトニクス コンポーネント、量子フォトニクス デバイス、テストおよび測定モジュール); 堆積方法 (スマートカット / イオン スライシング、エピタキシャル成長、ボンディングおよびレイヤー転送技術、その他);基板材料(シリコン基板、サファイア基板、タンタル酸リチウム基板、その他); 材料タイプ(薄膜ニオブ酸リチウム、ハイブリッド材料); 用途(通信、ヘルスケア、自動車、産業オートメーション、研究開発、その他); 流通チャネル(直接、販売代理店、オンライン); 地域 - 市場規模、業界動向、機会分析、2025~2033年までの予測

  • 最終更新日: 2025年7月5日 |  
    フォーマット: PDF
     | レポートID: AA07251368  

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